English: Illustration of the four main steps of a nanosphere lithography process, depicting the sequence of: (a) the deposition of colloidal nano/micro-particles on a surface, which will act as mask; (b) reactive ion etching (RIE) for particle shaping, producing a non-close packed array; (c) material infiltration via physical deposition; (d) lift-off of the colloids leaving only the nano/micro-patterned material in between the particles. Image reused from: https://www.mdpi.com/2079-4991/11/7/1665 with permission from MDPI.
compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
Aquest fitxer conté informació addicional, probablement afegida per la càmera digital o l'escàner utilitzat per a crear-lo o digitalitzar-lo. Si s'ha modificat posteriorment, alguns detalls poden no reflectir les dades reals del fitxer modificat.