Fitxer:Locos (microtechnology) process recessed.svg
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 330 × 599 píxels. Altres resolucions: 132 × 240 píxels | 264 × 480 píxels | 423 × 768 píxels | 564 × 1.024 píxels | 1.128 × 2.048 píxels | 512 × 929 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 512 × 929 píxels, mida del fitxer: 31 Ko)
 | Aquest fitxer i la informació mostrada a continuació provenen del dipòsit multimèdia lliure Wikimedia Commons._process_recessed.svg?uselang=ca){kind=small} Vegeu la pàgina original a Commons |
Resum
| Descripció |
English: The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures.
I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, nitride mask IV. Etching of nitride layer and silicon oxide layer V. Silicon etch VI. Thermal growth of silicon oxide VII. Furhter growth of thermal silicon oxide VIII. Removal of nitride mask 1) Si, silicon substrate 2) SiO2, pad/buffer oxide, chemical vapor deposition silicon oxide 3) Si3N4, nitride mask 4) SiO2, isolation oxide, thermal oxide |
| Data | |
| Font | Treball propi |
| Autor | Twisp |
Llicència
|
Jo, el titular del copyright d'aquesta obra, l'allibero al domini públic. Això s'aplica a tot el món. En alguns països això pot no ser legalment possible, en tal cas: Jo faig concessió a tothom del dret d'usar aquesta obra per a qualsevol propòsit, sense cap condició llevat d'aquelles requerides per la llei. |
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
| Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 21:08, 14 des 2009 | | 512 × 929 (31 Ko) | Cepheiden | some fixes |
| 22:24, 19 gen 2008 |  | 625 × 1.169 (64 Ko) | Twisp | {{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a ja.wikipedia.org
_process_recessed.svg){kind=link}