English: Illustration of the proximity effect in nanoimprint lithography. Top: Array of depressions is more quickly filled at the edge than the center. Bottom: The wide space between two groups of protrusions tends to be filled slower than the narrow spaces between the protrusions, resulting in the formation of holes in the unpatterned area.
compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
S'autoritza la còpia, la distribució i la modificació d'aquest document sota els termes de la llicència de documentació lliure GNU versió 1.2 o qualsevol altra versió posterior que publiqui la Free Software Foundation; sense seccions invariants, ni textos de portada, ni textos de contraportada. S'inclou una còpia d'aquesta llicència en la secció titulada GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
Podeu seleccionar la llicència que vulgueu.
Registre original de càrregues
La pàgina de descripció original era aquí. Els noms d'usuari a continuació es refereixen a en.wikipedia.
Illustration of the proximity effect in nanoimprint lithography. Top: Array of depressions is more quickly filled at the edge than the center. Bottom: The wide space between two groups of protrusions tends to be filled slower than the narrow spaces betwee
Illustration of the proximity effect in nanoimprint lithography. Top: Array of depressions is more quickly filled at the edge than the center. Bottom: The wide space between two groups of protrusions tends to be filled slower than the narrow spaces betwee
Illustration of the proximity effect in nanoimprint lithography. Top: Array of depressions is more quickly filled at the edge than the center. Bottom: The wide space between two groups of protrusions tends to be filled slower than the narrow spaces betwee
Llegendes
Afegeix una explicació d'una línia del que representa aquest fitxer