English: Photograph of free-standing Silicon source being locally heated by a 400W 1030nm disc laser, for the purpose of Thermal Laser Epitaxy, a technique for the growth of thin films. A liquid phase can clearly be seen on the surface of the source, whilst the rest of the source remains solid. This eliminates the need for crucibles that are needed in other deposition techniques
compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
adaptar – fer-ne obres derivades
Amb les condicions següents:
reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
Aquest fitxer conté informació addicional, probablement afegida per la càmera digital o l'escàner utilitzat per a crear-lo o digitalitzar-lo. Si s'ha modificat posteriorment, alguns detalls poden no reflectir les dades reals del fitxer modificat.
Amplada
2.000 px
Alçària
1.600 px
Octets per component
8
8
8
Esquema de compressió
LZW
Composició dels píxels
RGB
Orientació
Normal
Nombre de components
3
Resolució horitzontal
600 ppp
Resolució vertical
600 ppp
Ordenament de dades
a blocs densos (chunky)
Programari utilitzat
Adobe Photoshop CS5 Windows
Data i hora de modificació del fitxer
09:39, 19 feb 2021
Espai de color
sRGB
Dia i hora de digitalització
12:02, 4 feb 2021
Data que s'ha modificat les metadades per última vegada