Fitxer:Photolithography etching process.svg
Mida d'aquesta previsualització PNG del fitxer SVG: 120 × 600 píxels. Altres resolucions: 48 × 240 píxels | 96 × 480 píxels | 153 × 768 píxels | 204 × 1.024 píxels | 409 × 2.048 píxels | 512 × 2.560 píxels.
Fitxer original (fitxer SVG, nominalment 512 × 2.560 píxels, mida del fitxer: 8 Ko)
 | Aquest fitxer i la informació mostrada a continuació provenen del dipòsit multimèdia lliure Wikimedia Commons. Vegeu la pàgina original a Commons |
|
Aquest fitxer SVG inclou text encapsulat que es pot traduir al vostre idioma utilitzant un editor que admeti SVG, un editor de text o l'eina de traducció de SVG. Per a més informació vegeu l'ajuda de traducció de fitxers SVG. |
W3C-validity not checked.
Resum
| Descripció |
English: Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale. |
| Font | Treball propi |
| Autor | Cmglee |
| Altres versions |
|
.svg)
Llicència
Jo, el titular dels drets d'autor d'aquest treball, el public sota les següents llicències:
Aquest fitxer està subjecte a la llicència de Creative Commons Reconeixement i Compartir Igual 3.0 No adaptada.
- Sou lliure de:
- compartir – copiar, distribuir i comunicar públicament l'obra
- adaptar – fer-ne obres derivades
- Amb les condicions següents:
- reconeixement – Heu de donar la informació adequada sobre l'autor, proporcionar un enllaç a la llicència i indicar si s'han realitzat canvis. Podeu fer-ho amb qualsevol mitjà raonable, però de cap manera no suggereixi que l'autor us dóna suport o aprova l'ús que en feu.
- compartir igual – Si modifiqueu, transformeu, o generareu amb el material, haureu de distribuir les vostres contribucions sota una llicència similar o una de compatible com l'original
|
S'autoritza la còpia, la distribució i la modificació d'aquest document sota els termes de la llicència de documentació lliure GNU versió 1.2 o qualsevol altra versió posterior que publiqui la Free Software Foundation; sense seccions invariants, ni textos de portada, ni textos de contraportada. S'inclou una còpia d'aquesta llicència en la secció titulada GNU Free Documentation License. |
Podeu seleccionar la llicència que vulgueu.
Historial del fitxer
Cliqueu una data/hora per veure el fitxer tal com era aleshores.
| Data/hora | Miniatura | Dimensions | Usuari/a | Comentari | |
|---|---|---|---|---|---|
| actual | 09:27, 17 abr 2022 | | 512 × 2.560 (8 Ko) | Djiboun | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for fr. |
| 14:18, 20 juny 2020 |  | 512 × 2.560 (5 Ko) | Mega deppa | Reverted to version as of 16:52, 9 October 2011 (UTC) | |
| 14:16, 20 juny 2020 |  | 512 × 2.560 (8 Ko) | Mega deppa | File uploaded using svgtranslate tool (https://svgtranslate.toolforge.org/). Added translation for ja. | |
| 17:52, 9 oct 2011 |  | 512 × 2.560 (5 Ko) | Cmglee | Align text, change enumeration and change colour to match Image:CMOS_fabrication_process.svg. | |
| 23:03, 30 set 2011 |  | 512 × 2.560 (5 Ko) | Cmglee | Merge develop and remove exposed photoresist. | |
| 23:46, 29 set 2011 |  | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 23:39, 29 set 2011 |  | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 23:37, 29 set 2011 |  | 512 × 2.926 (5 Ko) | Cmglee | Fix text alignment. | |
| 23:30, 29 set 2011 |  | 512 × 3.413 (5 Ko) | Cmglee | {{Information |Description ={{en|1=Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. }} |Source ={{own}} |Author =Cmglee |Date |
Ús del fitxer
La pàgina següent utilitza aquest fitxer:
Ús global del fitxer
Utilització d'aquest fitxer en altres wikis:
- Utilització a ar.wikipedia.org
- Utilització a en.wikipedia.org
- Utilització a en.wikibooks.org
- Utilització a fa.wikipedia.org
- Utilització a fr.wikipedia.org
- Utilització a id.wikipedia.org
- Utilització a ja.wikipedia.org
- Utilització a www.wikidata.org
