Fotolitografia (electrònica)

Fig.1 Il·lustració simplificada del gravat en sec usant fotolitografia sobre semiconductor (no està a escala).

Fotolitografia (també, litografia òptica o litografia UV), en electrònica, és un procés utilitzat en microfabricació mitjançant l'estampació fotoquímica sobre un substrat de silici anomenat oblia. La fotolitografia fa servir la llum per transferir un model geomètric extremadament petit des d'una fotomàscara a un substrat sensible a la llum. Aleshores s'hi apliquen tot un seguit de processos de deposició o gravat, Per exemple, un circuit CMOS es pot processar fins a 50 cicles fotolítics. Només pot processar superfícies planes 2D i necessita una atmosfera extremadament neta (sala blanca).

Procediment

Fase	Descripció
Neteja	Mitjançant un tractament químic; per exemple, segons la norma RCA clean
Preparació	Es diposita l'oblia a 150 °C durant 10 minuts.
Aplicació fotoresistiva	Aplicació d'una pel·lícula fotoresistiva mitjançant centrifugació (spin coating).
Exposició i desenvolupament	Exposició de la matriu a revelar/insolar a una llum molt intensa.
Gravat	Eliminació de les parts sense insolar amb agents químics
Eliminació fotoresistiva	Neteja de residus fotosensibles.

Vegeu també

• Fotolitografia ultraviolada extrema (electrònica)
• Litografia de raigs X