Vés al contingut

FinFET

De la Viquipèdia, l'enciclopèdia lliure
Fig.1 Estructura d'un transistor FinFET

FinFET (acrònim de fin field-effect transistor) és un tipus de transistor d'efecte camp de tecnologia 3D (procés no planar) i substracte silici sobre aïllant (SOI), emprat en la fabricació dels actuals microprocessadors. Els transistors FinFET aconsegueixen menor superfície en el dau de silici, a més a més de major velocitat de commutació i menor consum de potència. El FinFET va ser concebut el 2001 a la universitat de Califòrnia, Berkeley, pels investigadors Chenming Hu, Tsu-Jae King-Liu i Jeffrey Bokor.[1][2][3][4]

Paràmetres

[modifica]
  • Avantatge dels transistors FinFET : [5]
Paràmetre Detall
Superfície en SI Permet implementar transistors per sota dels 22 nm (actualment estan a 5 nm)
Consum de potència Reducció significativa del consum elèctric.
Tensió d'operació Permet treballar per sota 1V.
Corrent de pèrdues Reducció típica del 90%.
Velocitat d'operació Millora típica del 30%.

GAAFET

[modifica]
Evolució del transistor: a l'esquerra tecnologia Planar (la porta pel damunt del canal), al centre tecnologia FIN (la porta als costats laterals del canal, i a la dreta tecnologia GAAFET (la porta envolta tot el canal).

GAAFET (gate-all-around FET) o transistor FET de porta envoltada és similar al concepte de FinFET amb la diferència que el material qui forma la porta envolta la regió del canal.[6] GAAFET són els successors dels FinFET per a implementar les tecnologies per sota de 7nm.[7]

Implementacions

[modifica]
Empresa Data Tecnologia

FinFET

GlobalFoundries 2012 14 nm
TSMC 2014 16 nm
AMD Abril 2017 14 nm
Samsung Març 2017 14 nm
TSMC setembre 2017 10 nm

Referències

[modifica]
  1. «What is Finfet?» (en anglès). https://www.computerhope.com.
  2. «FinFET Technology | FinFET Basics | Radio-Electronics.Com» (en anglès). http://www.radio-electronics.com.+[Consulta: 15 novembre 2017].
  3. «FinFET Guide - TechDesignForum» (en anglès). http://www.techdesignforums.com.+[Consulta: 15 novembre 2017].
  4. «FinFET Design, Manufacturability, and Reliability» (en anglès). https://www.synopsys.com.+[Consulta: 15 novembre 2017].
  5. «[https://microlab.berkeley.edu/text/seminars/slides/2011-8_FinFET_and_the_Concept_Behind_It.pdf FinFET 3D Transistor & the Concept Behind It]» (en anglès). https://microlab.berkeley.ed.+[Consulta: 14 novembre 2017].
  6. «Gate-All-Around FET (GAA FET)» (en anglès). semiengineering.com, 13-12-2020. [Consulta: 13 desembre 2020].
  7. Solca, Bogdan. «TSMC to implement gate-all-around (GAAFET) transistors on the 2 nm nodes by 2023» (en anglès). https://www.notebookcheck.net,+13-12-2020.+[Consulta: 13 desembre 2020].